Tapi kali ini bukan datang dari Apple, melainkan sebuah institut yang juga berada di kampung halaman Samsung.
Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST) menuduh Samsung telah melakukan pelanggaran paten terkait teknologi pabrikasi yang dimilikinya.
SCROLL TO CONTINUE WITH CONTENT
Kenapa 'sebagian'? Samsung disebut pernah mengundang profesor Lee Jong-ho asal Seoul National University, yang merupakan salah satu partner developer KAIST.
Dalam undangannya Jong-ho menjelaskan ke engineer Samsung, bagaimana teknologi pabrikasi FinFET bekerja. Atas dasar itulah kemudian Samsung dianggap telah mencuri penemuan KAIST.
"Samsung mampu mengurangi waktu pengembangan dan biaya dengan menyalin penemuan Lee tanpa biaya. (Samsung) menyalin penemuan Lee tanpa hak atau kompensasi yang layak," ujar sumber yang dikutip detikINET dari Phone Arena, Senin (5/12/2016).
Sejauh ini teknologi pabrikasi FinFET temuan KAIST telah digunakan oleh Intel, Samsung, Qualcomm, dan Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC). Namun baru Intel yang mengantungi lisensi dari KAIST.
Setelah Samsung, kabarnya KAIST juga akan menggugat Qualcomm dan TSMC. (yud/rou)