China Sukses Buat Prototipe EUV, Siap Produksi Chip 2nm

Industri semikonduktor China dilaporkan mencapai terobosan besar setelah berhasil mengembangkan prototipe mesin litografi extreme ultraviolet (EUV) buatan dalam negeri. Keberhasilan ini menandai langkah penting Beijing dalam upaya mencapai swasembada teknologi chip canggih, di tengah pembatasan ekspor teknologi dari Amerika Serikat dan negara-negara sekutunya.

Menurut laporan Reuters, prototipe mesin EUV tersebut dibangun di sebuah laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen dan telah rampung pada awal 2025. Mesin ini diklaim mampu menghasilkan cahaya ultraviolet ekstrem-komponen krusial dalam proses manufaktur chip berukuran nanometer kecil-yang selama ini hanya dikuasai segelintir pemain global.

Teknologi EUV merupakan jantung dari produksi chip mutakhir, termasuk node 5 nm, 3 nm, hingga 2 nm. Selama ini, pasar mesin EUV dimonopoli oleh ASML, perusahaan asal Belanda yang menjadi pemasok tunggal mesin EUV bagi raksasa chip dunia seperti TSMC, Samsung, dan Intel.

China selama bertahun-tahun berupaya menguasai teknologi ini, namun terhambat sanksi dan pembatasan ekspor yang melarang ASML menjual mesin EUV ke perusahaan-perusahaan China. Kondisi tersebut mendorong Beijing menempuh jalur mandiri melalui riset intensif dan rekayasa balik.

Reuters menyebutkan, pengembangan prototipe EUV China melibatkan tim besar yang terdiri dari ribuan peneliti dan mahasiswa teknik. Beberapa di antaranya merupakan mantan insinyur ASML yang direkrut secara diam-diam dengan kompensasi tinggi untuk mempercepat penguasaan teknologi inti.

Meski demikian, pencapaian ini belum sepenuhnya sempurna. Prototipe EUV tersebut masih menggunakan sejumlah komponen lama buatan ASML dan saat ini belum mampu memproduksi chip yang benar-benar berfungsi. Mesin tersebut masih dalam tahap pengujian internal dan belum diarahkan untuk produksi massal.

Kemajuan China ini mengejutkan banyak pengamat industri. Pada April 2025 lalu, CEO ASML Christophe Fouquet sempat menyatakan bahwa China membutuhkan waktu "bertahun-tahun" untuk mengembangkan teknologi EUV secara mandiri. Namun, kemunculan prototipe ini menunjukkan bahwa jarak tersebut mungkin lebih pendek dari perkiraan sebelumnya.

Reuters melaporkan bahwa pemerintah China menargetkan produksi chip berfungsi menggunakan mesin EUV lokal pada 2028, meski sebagian sumber menilai target yang lebih realistis adalah sekitar 2030.

Dorong Ambisi Chip 2nm

Keberadaan prototipe EUV ini memperkuat ambisi China untuk menembus produksi chip 2 nm di masa depan. Perusahaan foundry terbesar China, SMIC, disebut-sebut tengah mempersiapkan fondasi teknologi untuk node yang lebih kecil, setelah sebelumnya mengembangkan proses N+3 yang diklaim mendekati 5 nm meski dengan berbagai keterbatasan.

Lonjakan kebutuhan chip akibat demam kecerdasan buatan (AI) juga menjadi faktor pendorong. Perusahaan teknologi seperti Huawei terus berupaya mengamankan pasokan chip domestik dengan membangun jaringan pabrik dan memperdalam kerja sama dengan SMIC.

Meski dianggap sebagai langkah maju yang sangat signifikan, para ahli menilai China masih menghadapi tantangan besar. Efisiensi mesin, stabilitas sumber cahaya EUV, tingkat keberhasilan produksi (yield), serta kemampuan memproduksi chip dalam volume besar masih menjadi pekerjaan rumah yang tidak mudah.

Selain itu, detail teknis mengenai cara kerja mesin EUV buatan China-termasuk spesifikasi sumber cahaya dan presisi optik-masih sangat terbatas dan belum diungkap ke publik.

Namun demikian, terobosan ini menunjukkan paradoks dari sanksi teknologi Barat. Alih-alih menghentikan laju perkembangan, pembatasan justru mendorong mobilisasi nasional China menuju kemandirian teknologi. Jika berhasil dikembangkan hingga tahap produksi massal, mesin EUV buatan China berpotensi mengubah peta persaingan industri semikonduktor global dalam satu dekade ke depan.